(AOF) - Riber a annoncé l'acquisition des droits exclusifs d'une famille de brevets déposés par l'Université de Kwansei Gakuin, au Japon. Celle-ci revendique un procédé permettant de réaliser, in situ, des motifs en trois dimensions avec des matériaux semi-conducteurs composés, au moyen de l'epitaxie par jets moléculaires et de l'écriture par faisceau d'électrons. Riber, l'Université de Kwansei Gakuin et d'autres partenaires industriels japonais vont s'associer pour développer l'équipement MBE-Litho, permettant de réaliser ce procédé. Cet équipement aura plusieurs stations de traitement dont une machine MBE couplée à un système d'écriture par faisceau d'électrons. La machine prototype sera installée à l'Université de Kwansei Gakuin. Elle sera utilisée pour démontrer les possibilités du procédé en termes de conformation et de résolution des motifs tridimensionnels obtenus ainsi que les caractéristiques électroniques des matériaux semi-conducteurs réalisés par cette nouvelle technologie. La machine MBE-Litho est destinée au marché des équipements de recherche pour les laboratoires des Universités ou des Instituts de Recherche travaillant dans les nanotechnologies.